Ionengestützte Plasmaprozesse bei Atmosphärendruck

Gebrauchsmuster › DE › Jahr der Anmeldung 2014

Zitation

Bickel, Jan; Gesche, Roland; Krellmann, Martin. Hochschule für Technik und Wirtschaft Berlin. Gebrauchsmuster "Ionengestützte Plasmaprozesse bei Atmosphärendruck". DE 20 2014 105 705.6. (02.12.2014)