Ultradünne Siliziumdioxid-Schichten auf Silizium: Grenzflächenoptimierung und –charakterisierung auf atomarer Skala

Sammelbandbeitrag › Aufsatz › 2009

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Stegemann, Bert: Ultradünne Siliziumdioxid-Schichten auf Silizium: Grenzflächenoptimierung und –charakterisierung auf atomarer Skala. In: Jahrbuch Oberflächentechnik 2009. Hg. von Dr. Ing. Richard Suchentrunk. 1. Bad Saulgau: Eugen G. Leuze Verlag 2009 (Band 65), S. 275-286.

ISBN

978-3-87480-253-6

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https://ssl.kundenserver.de/www.leuze-verlag-shop.de/sess/utn;jsessionid=154ae430144e06c/bs_shopdata/0030_Fachb=FCcher+Galvanotechnik/product_details.shopscript?article=0075_Jahrbuch%2BOberfl%3DE4chentechnik%2B2009%3D2C%2BBand%2B65%2B%3D28%3D3Cbr%3D3EISBN

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