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Near-UV photoelectron spectroscopy as a tool for defect characterization in a-Si:H and at silicon interfaces Veranstaltungsbeitrag › Posterpräsentation › 2009 Veranstaltung First International Workshop on the Staebler-Wronski Effect (1st IWSWE) Berlin, 19.04.2009 - 22.04.2009 Ergänzende Angaben Poster L. Korte, M. Schmidt, B. Stegemann Homepage