Optimization of PECVD deposition ultra-thin tunnel SiOx film as passivation layer for silicon heterojunction solar cells

Veranstaltungsbeitrag › Posterpräsentation › 2016

Veranstaltung

3. IEEE PVSC
Portland, U.S.A., 05.06.2016 - 10.06.2016

Ergänzende Angaben

Poster (Mazzarella, Luana; Kolb, Sophie; Kirner, Simon; Calnan, Sonya; Korte, Lars; Stannowski, Bernd; Rech, Bernd; Schlatmann, Rutger)

Zugehörige Publikationen