Passivation of crystalline silicon wafers by ultrathin surface oxides prepared in HCl solution

Veranstaltungsbeitrag › Posterpräsentation › 2017

Veranstaltung

Progress in Applied Surface, Interface and Thin Film Science 2017
Florenz, 20.11.2017 - 23.11.2017

Ergänzende Angaben

Poster (Heike Angermann, Patrice Balamou, Bert Stegemann)

Homepage

https://lm.uniza.sk/~jurecka/konferencie/SURFINT-2017/